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不锈钢电解抛光设备： 不锈钢电解抛光过程中的有关因素介绍 电解抛光前制件表面状态及金相组织 在电解抛光中我们可以了解到，被抛光制件在抛光前的表面状态和金相组织，均会直接影响电解抛光加工的工艺效果。 1.被抛光的制件表面的金相组织越均匀，越细密，例如结晶特细密的纯金，越有利于抛光过程的进行，而且抛光效果也越好。 2.被抛光制品的金相组织不均匀时，特别是含有非金属成分时，就会使电解抛光体系呈现出不一致的电化学敏感性。这对电抛光就提出了更加苛刻的要求。若非金属含量过大时，电解抛光将无法进行。 3.被抛光制件的材料为合金，特别是多组分合金时，抛光工艺的控制比较麻烦。要获得满意的抛光效果，就应该选用更加严格的工艺规范，使组合金的各个组分尽量能溶蚀均匀。 4.制件在抛光前表面处理的越干净越细密，越有利于电解抛光过程的进行，越易获得预期的抛光效果。反之亦然。实践证明，电解抛光前将抛光制件表面进行预处理，使其表面的粗糙度再1.6-0.8R是获得电解抛光效果的必要条件。 电化学抛光的电流密度或电压通常应控制在极限扩散电流控制区，阳极极化曲线的平坦区（CD段），低于此区的电流密度时，表面会出现腐蚀。高于此区的电流密度时，因有氧气溢出，表面易出现气孔，，麻点或条纹。这个平坦区不是固定不变的，它会随着温度，配位剂的浓度和添加剂的种类而变化。HEDP电解抛光铜是，HEDP浓度对阳极电流密度-电压曲线的影响情况。由图可见，随着配位剂HEDP浓度的增高，平坦区对应的阳极密度下降，槽电压也降低，即高浓度配位剂可在较低阳极电流或电压下形成高黏度的黏液膜。但配位剂浓度太高时，电解液黏度过大，电阻大，电流密度小，金属溶解速度慢，此时被抛光的铜表面易出现麻点或生成蓝色沉淀物，表面反而不量。 添加剂OP-10乳化剂对HEDP电抛光铜的阳极极化曲线的影响，加入OP-10后，平坦区对应的电流密度明显下降，其作用类似于提高配位剂浓度的效果。这是由于加入OP-10后，铜片表面生成了一层吸附膜，阳极表面容易钝化，使抛光效果提高。同时OP-10乳化剂是一种表面活性剂，具有降低表面张力的作用，使阳极析出的氧气不会太长时间停留在表面，从而减小了试片表面的点状和现状腐蚀，并不易生成蓝色沉淀物膜。 电化学抛光应持续的时间，要收到下列因素的影响。 1.被抛光零件的材料及其表面的预处理程度。 2.阳，阴极间的距离。 3.电解液的抛光性能及温度. 4.电解抛光过程使用的阳极电流密度的大小及槽电压的高低。 5.工艺上对抛光表面光亮度的要求等。 因此，电解抛光的持续时间，是一个可变性较大的参数。对于一个确定的电抛光体系，应有一个适合的时间范围，是获得预期抛光效果的必要条件。应当指出，在适当的时间范围内，抛光效果与时间成正比。超出这个时间范围时，抛光效果就会降低，甚至适得其反，发生腐蚀。这是由于电极表面电解液因电流长时间通过而使温度升高的结果。 国内大多数人喜欢使用大阳极电流，小极间距离来适当缩短电解抛光的持续时间，以获得较好的抛光效果和效率。这与国外恰恰相反，他们通常采用小电流，大极间距离进行抛光加工，这是需要的抛光时间就会长些。 电解抛光设备中电解阴极的选择 在电解抛光中，阴极的材料性能，几何形状，尺寸大小以及它与被抛光制件之间的距离，位置等，均会直接影响电解抛光工艺能否正常进行及抛光的效果。因此，阴极的设计和应用，乃是电解抛光作业中必须特别重视的基本要素 之一。 关于阴极的设计，目前还没有一个比较系统和完善的科学理论作为依据，只能靠经验和反复实践。因此，阴极材料的选用，应满足以下几个要求：（1）选择的材料要有较高的导电性能。 （2）在电解抛光液中要有足够的化学稳定性。在不断改变电解液的组成及不污染电解液的同时，它本身的适用寿命要尽量长。（3）在电解抛光工艺中不易钝化和极化。（4）要有一定的经济适用价值，价格低廉，容易加工制造，还应有足够的机械强度。 光亮剂在电解抛光中的作用 在硝酸-硫酸-盐酸型的抛光液中，若降低销售浓度，虽然有害气体的生成量减少了，但溶液的化学抛光能力也明显下降，酸洗后的制品表面发花，无光，此时的酸洗反应完全是一种剧烈的化学腐蚀，并具有化学腐蚀的固有不均匀性。所谓光亮剂，就是能够使金属表面不均匀的化学腐蚀转变成有规律的溶解，并能够使金属表面达到一定光亮度的物质。常用的光亮剂主要是缓腐蚀剂和表面活性剂两类。 1.缓腐蚀剂在化学抛光液中的作用： （1）防止制品抛光时产生过腐蚀或氢脆现象 （2）提高化学抛光液的增光作用 （3）扩大抛光液的适用范围 （4）部分缓腐蚀剂可减少有害氮氧化物的产生，改善操作环境 （5）减少抛光液的无效消耗 2.表面活性剂的主要作用： （1）表面活性剂具有很强的发泡作用，在化学抛光时可以形成较厚的泡沫层 （2）表面活性剂的泡沫层具有很强的抑雾作用，可以阻止氮