《纳米SiO_2的表面处理及其在聚合物基纳米复合材料中的应用进展》.pdfVIP

　第 3 期 高 　　分 　　子 　　通 　　报 ·1 · 综 　述 纳米 SiO 的表面处理及其在聚合物基纳米复合材料中的应用进展 2 1 2 单 　薇 ,廖明义 ( 1 大连理工大学 高分子材料系 ,大连 　116012 ; 2 大连海事大学 机电与材料学院材料系 ,大连 　116026) ( ) 粒子的制备方法、结构和特性 ,对近年来国内外纳米 SiO 　　摘要 :简要介绍了纳米二氧化硅 SiO 的表面处 2 2 理方法及聚合物SiO 纳米复合材料的制备方法进行了阐述 ,并针对不同改性方法和制备方法的特点加以分析 2 比较;讨论了 SiO 粒子的分散机理和增强机理 ,并对未来的研究内容及方向提出展望。 2 　　关键词 :纳米 SiO ; 表面改性 ; 纳米复合材料 ; 合成 ; 进展 2 引言 纳米 SiO 在工业上通常称为“超微细白炭黑”, 以往是以普通填料的身份广泛应用于橡胶工业。近 2 年来 ,随着现代电子显微技术和计算机科学的应用与发展 ,人们逐渐从微观粒子角度对 SiO 粒子进行研 2 ( ) ( ) 究与开发 ,并制备出聚合物SiO 纳米复合材料 PSN 。PSN 是指 SiO 粒子以纳米级 1～100nm 分散在聚 2 2 合物基体中的一种新型的复合材料。由于 SiO 粒子具备独特的纳米尺度 ,并且可与聚合物基体产生强 2 ( ) 烈的界面粘结作用 ,使得只要加入很少量的 SiO 粒子 1wt～10wt % ,就可获得较之原聚合物基体或普通 2 的复合材料更为优异的力学[1 ,2 ] 、光学、热学和磁性能等 ,因而也受到国内外材料界的日益关注 ,并被誉为 未来世纪最具发展潜力的材料之一。 作为无机相的纳米 SiO 粒子如何在作为有机相的聚合物基体中均匀分散 ,至今还是一个具有挑战