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一种精确测定芯片内部微纳几何结构的方法.pdf
( ) 第 卷第 期 扬州大学学报 自然科学版 13 3 Vol.13No.3 年 月 ( ) JournalofYanzhouUniversit NaturalScienceEdition 2010 8 g y Au.2010 g 一种精确测定芯片内部微纳几何结构的方法 1 1 2 , , 刘剑霜 李伙全 陈 一 ( , ; , ) 1.扬州大学 物理科学与技术学院 江苏 扬州 225002 2.复旦大学 材料科学系 上海 200433 : ( , 摘 要 提出一种利用高分辨率透射电子显微镜 hihresolutiontransmissionelectronmicrosco 简称 g py ) , 、 HRTEM 对半导体芯片内部微纳几何结构的精确测量方法 分别讨论了测定过程中制样的影响 测量 、 设备放大倍率的校验 样品晶向校对以及不同情况下内标法和标称法的选用 该方法对半导体工业中 . HRTEM 的应用有一定的指导意义. : ; ; ; 关键词 半导体芯片 微纳几何结构 高分辨率透射电子显微镜 内标法 中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( ) TN307 A 1007 824X201003 0050 04 半导体芯片内部微结构的尺寸测定和形貌分析是半导体制造中质量控制和失效分析的重要内 [] [] 1 2 、 容 半导体制造工艺在材料制备 设备操作和工艺控制等方面均要求很高的精确度 随着制造工 . . , , 艺的不断进步 当前半导体工业已经进入 65nm以下级技术时代 工艺特征尺寸和
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