DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究.pdfVIP

下载本文档

7
0
约1.12万字
约 6页
2015-09-30 发布于湖北
举报
版权申诉

DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究.pdf

1、有哪些信誉好的足球投注网站（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究.pdf

第34卷第l期人工晶体学报 v。1．34N。．1 型i生兰旦』Q堕坠些Q!坚塑!旦婴堡鱼坠翌垒坠 !!坠翌型!型三 DCPlasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究周祖源，陈广超，周有良，吕反修，唐伟忠，李成明，宋建华，佟玉梅 (北京科技大学材料科学与工程学院，北京100083) ， Plasm Jet 摘要：在100kw级Dc cVD设备上，采用Ar-H2-cH。混合气体，通过控制工艺参数，在Mo衬底上获得不同占优晶面和应力状态的膜体结构。研究表明：不同取向的晶面在膜体中的分布不同，但各晶面随沉积温度的变化规律是相似的，在900℃左右容易获得较大的(220)晶面占优的膜体结构；薄膜的内应力沿晶体生长方向逐渐减小，且随沉积温度或甲烷浓度的增大而增大；具有高取向度的膜体将获得较为平整的表面。关键词：自支撑CVD金刚石薄膜；晶面取向；内应力；表面粗糙度中图分类号：0484 文献标识码：A and of Diamond ControllingDepositionRoughnessFree-standing Film DCPlasmaCVD Depositedby Jet F0n-戈iu， Z日0U屁-y蚴n，C日EⅣG眦愕-c九口o，Z日DUyoM一施愕，LU mⅣG耽：勘。增，Ⅱ醌已昭一m妇’，5D，vG肋忍一^Ⅱ口，mⅣG地一榭i 0fMaterialsScienceand ofscienceand (school En百neering，unive塔ityTechnologyBe巧ing，Be巧ing100083，china) (R∽删15却把批r2004) DC amixture filmswere 100kW method．Thefed were Abs”act：Di锄onddeposited jet by plasma gases of and substmtewasMo．Variousdiamondstmctures Ar，H2 CH4．The were．detectedbyRaman，X-ray di伍阻ctionand Itisfoundthatthereisa zonefor and Roughmeter． proper depositiontempemtureCH4 concentI甚tionto thefilmstIucture．Theorientationis the and optimize di珏色rent锄onggrowth，nucleation fhcturecross—sectionsudaces．Theratio the