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2015-09-29 发布于湖北
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ZnS薄膜沉积过程的基材效应.pdf

真空科学与技术学报第3l卷第3期 a姐NEsEJOURNALOFVAaII『l垤SCIENCEANDTECHNOLOGY 2011年5、6月 ZnS薄膜沉积过程的基材效应徐均琪’ 苏俊宏粱海锋惠迎雪 (西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710032) ofSubstrateMaterialOilGrowthofZnSFilms IIlfIuence Xu Junqi’，SuJunhong，Liangthifeng，XiYingxue F／／m (Shaan矗Prov／n傀Th／n Techno／ogyand唰TestOpen研 710032，china) ￡曲咖，X／’吼死由毗)g脚Un／vers／ty。X／’an AbstractTheZnSfilmswere thermal andionbeamassisted substratea grownby evaporation deposition([BAD)on of K9 ofthe thesubstrate瑚衄- silicon，germanium，quartz，andglass，respectively．Theimpactsgrowthconditions，including the and oftheZnsfilmswere terials，substrate rate，on tempemture，anddeposition growth，microstmcturesproperties results affectthe and ofZnSfilms． studied．Theshowthatthesubstrateand speciesterat)eraturestrongly growthproperties For itcoInesto substrates otherthree substrates．Asthesubstrate instance，when rates，quartz outperform type deposition rise fromroom 2000C，the mtesdifferenceincreasefrom3．3to5．2nm／ temperatureup temperature(RT)todeposition to ZnSfdms atRTondifferent reducesthedifference1．86 the substrates，the min；IBAD nm／min．Among grown partly threeare be ZnSon hasthelowestref