电化学合成的含双键聚硅烷.pdfVIP

第23卷第5期 高分子材料科学与工程 v01．23，N。．5 POLYMERMATERIALSSCIENCEANDENGINEERING 2007年9月 Sept．2007 电化学合成的含双键聚硅烷 吴 市1，陈 来1，张峰君2，范雪骐1，任慕苏1，孙晋良1 (1．上海大学材料科学与工程学院，上海201800}2．安徽建筑T业学院材料系t安蠢台肥230023) 摘要：采用电化学夸成法．将甲基三氯硅兢与烯丙基氧进行聚台．合成出带有鼠键的聚硅烷。通过n IR，UV，1H—NMR．GPC表征了其结构，剥定了产物的赋键含量，并对产物进行了交联固化和高温裂并 实验．蛄果表明，产物中厩键保留串为8．2蟛，鼠犍的引入使聚硅统获得了很高的质量保留丰覆较高的陶 瓷产率。 关键词：聚硅烷；双键；电化学合成 中嗣分类号：TQ317 文献标识码：A 文章编号：1000—755s(2007)05—0064—04 Nicolet—AVR— 聚硅烷是一类链骨架中仅含硅原子的高聚 红外光谱仪(IR)：Thermo 物，经高温裂解制备碳化硅陶瓷材料是其用途 TAR370FT—IR，用KBr压片表面涂覆法；紫外 之一。聚硅烷的性能可以通过引入不同的侧链 光谱仪(UV)：ShimadzuUV一2501PC，环已烷 取代基而改变，目前的研究大多集中于烷基，苯 为溶剂}Av一500型傅立叶超导核磁共振波谱 基取代的线性聚硅烷“】。作为陶瓷先驱体，希望 仪(cDcl，为溶剂，TMS作内标)；高效液相色 引入有潜在反应括性的基团，以提高陶瓷产率。 谱一凝胶液相色谱分析仪(GPC)：美国Agilent 而台有双键的聚硅烷，由于在侧链上引入不饱 公司Agilentll00，THF为溶剂。 和键，因此，它对提高先驱体的陶瓷产率，缩短 1．2含双键聚硅烷的电化学合成 c／(3一SiC的制备周期，减少在制备过程中对复 将摩尔比为3／2的甲基三氯硅烷／烯丙基 合材料造成的力学损伤，有着重大的意义[2]。本 氯放人装有通气管，搅拌器和温度计的电化学 文首次采用电化学法以甲基三氯硅烷及烯丙基 反应瓶中，同时加入一定量的四氢呋哺溶剂和 氯为单体，合成出含有双键的聚硅烷，此法尚未 高氯酸锂支持电解质。用镁块作阴阳极。经过 见报道。 三次抽真空充氮后，开动搅拌和超声波，然后通 电，开始反应，达到一定电量时停止通电，加人 1实验部分 200 mL甲苯，通入氨气，中和残余的si—cl键， 1．1试剂与仪器 经过二次压滤和减压蒸馏，得到淡黄色的液态 甲基三氧硅烷(MeSiCl：)：星火化工厂，经 聚硅烷EPSI。将EPSl进行红外，紫外，1H— 蒸馏，取65℃～67℃馏分，密封保存；镁块：精 NMR，GPC等表征。作为对比，直接用甲基三 华镁业有限公司；甲苯：上海化学试剂公司，经 氯硅烷台成了液态聚硅烷EPS2。 钠脱水，收集110℃左右的馏分；四氢呋喃；上 1．3双键保留率的测定 海化学试剂公司，经钠脱