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第 卷第 期 Vol.45,No.5 45 5 真 空 VACUUM 年 月 Sep.2008 2008 9 脉冲激光沉积ZnO薄膜的制备及其性能研究 1 1 2 赵跃智 曹钦存 ,陈长乐 , ( 洛阳理工学院 材料系,河南 洛阳 西北工业大学 应用物理系 陕西 西安 ) 1. 471023;2. , 710072 摘 要:本文用脉冲激光沉积 法在 基片上制备了 薄膜和 薄膜。 射线衍射、原 (PLD) SiO ZnO Zn MnO X 2 1-x x 子力显微镜、紫外 可见光分光光度计对 薄膜的测试结果表明:薄膜具有( )面的择优取向,表面 - ZnO 103 比较平坦 ; 基片上制备的薄膜在 附近存在明显的吸收边,且薄膜的吸收对基片温度变化不明 SiO 387nm 2 显。通过对 薄膜的吸收光谱分析得出: 离子的掺杂改变了 薄膜的禁带宽度,随着 离 Zn MnO Mn ZnO Mn 1-x x 子掺杂量的增加,薄膜禁带宽度增加 ;薄膜的光吸收也从直接跃迁过渡为间接跃迁。 关键词: ; 薄膜 ; 薄膜 ;光吸收谱 PLD ZnO Zn MnO 1-x x 中图分类号: + 文献标识码: 文章编号 : ( TN304.21 A 100205-0065-03 PreparationofZnOthinfilmsbyPLDandtheircharacteristics 1 1 2 ZHAOYue-zhi,CAO Qin-cun,CHENChang-le (1.DepartmentofMaterial,LuoyangInstituteofScienceandTechnology,Luoyang471023,China; ’ 2.DepartmentofAppliedPhsics,NorthwesternPolytechnicalUnive

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