用射流电沉积进行局部快速电镀的工艺研究.pdfVIP

铲痧痧驴驴痧痧啕 2实用技术2 易《驴、纱驴驴、驴、护圆 用射流电沉积进行局部快速电镀的工艺研究 王梅丰，杜楠，赵晴，卢雄威 (南昌航空工业学院材料科学与工程学院，江西南昌330034) [摘要]射流电沉积是近年来发展起来的一种电沉积新工艺，具有普通电镀所不具备的一些 优点。利用二维移动平台系统进行射流电沉积，研究了瓦特镍镀液的喷射速度、温度以及阴阳极间距 等因素对射流电沉积的影响。研究结果表明，当镀液喷射速度为0．3zn／s，槽电压为20V，阴阳极之 间距离为17mm时，采用该系统可在金属试样上快速获得预先设定的图形镀层，镀层分布均匀，与基 体的结合力良好。 [关键词]射流电沉积；瓦特镍电镀；局部电镀 [中图分类号]TQl53．1[文献标识码]A 村野摄妒 O前言 适当的温度，然后经D100B蠕动泵加压经铂阳极 喷嘴以射流形式喷向固定在电镀槽上方的紫铜阴 射流电沉积是近年来发展起来的一种电镀新 极表面，与此同时铂阳极喷嘴按计算机设定的路线 工艺，具有选择性及沉积速度快等特点，可对大型 在x—Y平面上移动。流经阴极表面的射流镀液自 零部件实施局部快速电镀，如可用于磨损部位修复 然回流到回收槽。 及深、盲孔内的镀覆。射流电沉积日益受到国内外 1．2射流镀液的组成及工艺条件 同行的重视¨卫J，但目前仍主要停留在实验室研究 阶段。目前国内关于射流沉积的研究较少Ho，并 射流镀液的基础配方与工艺条件为：250g／L 且这些研究采用的射流装置比较简单，无法准确控 硫酸镍，60∥L氯化镍，40g／L硼酸，pH值3．8～ 制阴阳极之间的距离等工艺参数，因此所获得的试 4．2，镀液温度保持在55℃，镀液喷射速度由蠕动 Noo④前口血潞∽∞端潞①浩 验数据与结果受到一定限制。 泵控制。本试验中采用了化学稳定性很高的铂作 本研究采用了一套二维数控移动平台，可精确 为阳极喷嘴，其孔径为1．2mm，阴极材料采用了紫 控制射流喷嘴的运动轨迹及阴阳极之间的距离。 铜片。沉积操作之前，先对阴、阳极除油，活化，再 通过试验对电镀液以射流形式喷向阴极进行电镀 用蒸馏水、无水酒精充分清洗，然后迅速置于沉积 mm。 镍的基本工艺特性进行了研究，以获得射流电镀镍 室中，阴阳极之间的距离为17 的基本工艺规律。 1．3二维数控移动平台参数及G代码编程 ooo 插步位移设为100，脉冲频率设为2 Hz， l试验 “王”字的编码如下： N00G00X0 Y0 1．1试验装置 N01G00X150Y200 设计了专门的试验装置。试验装置由四部分