试议钡铁氧体磁记录材料发展概况(8页).pdfVIP

信息记录材料2003年第4卷第4期 记录与介质 钡铁氧体磁记录材料发展概况 王志良1，王步云2 (1．中国人民银行保定中心支行，保定0710(10；2．全国磁性记录材料信息站，保定071054) 摘要：钡(Ba)铁氧体磁粉和介质，是作为实现垂直磁记录方式、且适干批量生产的涂布型磁记录介质 而开发的。围绕Ba铁氧体磁粉、Ba铁氧体磁带和Ba铁氧体软磁盘的应用，回顾了Ba铁氧体记录材料的技术开 发史。玻璃晶化法制作的Ba铁氧体粒子，其特征是粒度分布好，并可通过Go_Ti置换量的选择，将矫顽力精确 地控制在应用系统所需要的最佳值。4MB H纠FDD、Hi一8、rrR等虽已商品化，却未发展到普及的程度。最近， 开发了更加微粒化的Ba铁氧体材料。其记录特性具有数百kFPI的潜在可能性。但应注意的是，微粒化的同时 也带来了磁化的稳定性问题。根据有关评价，结论认为最适宜的粒径为30nfn左右。 关键词：Ba铁氧体；涂布舟质；记录特性 中图分类号：TQ584 文献标识码：B 文章编号2003 同时，对垂直取向的Ba铁氧体涂布介质，也在采用l／2英 1前言 寸磁带的半速化辟vrR上进行了录像及重放演示，还进行 了采用盘介质的电子照相机的演示等，突出表现了Ba铁氧 在1975年日本应用磁学会举办的学术讲演会上，首次 体介质的高密度记录特性。 发表了有关co—o垂直记录薄膜的演讲“】。接着，在1977 由于采用G，cr膜的FDD在确保耐久性上还让人留有 一些担心，所以将介质换成开发工作已取得进展的Ba铁氧 年召开的INTERMAG会议上，发表了采用垂直薄膜的垂 直磁记录方式的技术方案”1。 体涂布介质，开发了Ba铁氧体3．5型4MBFD，并于1985 东芝公司考虑到当时vrR等及其以后的Av应用，于年开始提供样品。东芝公司Ba铁氧体产品的开发情况如表 1所示。 1978年开始进行涂布型Ba铁氧体介质的开发”]。公司认 为，为了实现垂直磁记录方式，不仅要用金属薄膜，也应 采用更适合批量生产的涂布型介质。此后，虽开发出了几 表1盼铁氧体的开发及商品化 种产品投放市场，但并未发展到广泛普及的程度。最近， 时间 产品开发及商品化 又试制出了微粒化程度比当时更高的Ba铁氧体磁粉，并对 1982年Q，cr单层溅射膜3．5型垂直FDD(演示) 其进行了评价，得出一些有趣的结果。铃木先生本人参与 1986年3．5型4MBH)D的oEM(提供样品) 了有关Ba铁氧体磁粉及其介质的开发工作．并介绍了东芝 1987年B日铁氧体磁粉批量生产(日产量2～3t) 公司的研究开发情况及最近的实验结果。 1991年业务用Hi一8Ba铁氧体磁带上市 2 Ba铁氧体的开发及商品化 3 Ba铁氧体技术开发史 】977年．东芝公司接受了岩崎先生提出的垂直磁记录 3．1如铁氧体磁粉 方式的解决方案，并于1978年开始投入c。_cr溅射膜和涂 实现涂布型垂直磁记录介质的尝试曾做过几次．但由 布型Ba铁氧体介质的开发。在1982年举行的东芝技术展 于采用普通的针状粒子，难以使细长的粒子在磁带表面垂 览会上，进行了采用o，Cr层单溅射介质的世界首张3．5直取向和保证良好的表面特性，所以这些尝试都没有取得 型(90mm)垂直的FDD(容量3M吲单面)的实地演示。 成功。B