PCVD技术在模具强化中的应用与进展.pdfVIP

维普资讯 模具工业 2008年第34卷第2期 技术在模具强化 中的应用与进展 张叶成，张 津，郭小燕，许洪斌 (重庆工学院 材料科学与工程学院，重庆 400050) 摘要：介绍了等离子化学气相沉积技术的基本原理，对此技术用于模具强化进行了探讨，并具体阐述了 该技术在冷作模具、热作模具、结构复杂塑料模上的应用状况，指出正确运用FCWD技术是提高模具使 用寿命的一个有效途径 。 关键词：啪 ；模具强4L；使用寿命 中图分类号：IG174．444；TG76 文献标识码：A 文章编号：1001—2168(2008)02-0064—05 Application and developmentofPCVD technology in die na d mould strengthening {ANG Ye-cheng， Jtn，GU0Xiao-yan，XU Hong-bing (CollegeofMaterialsScienceandEngineering，ChongqingInstituteofTechnology， Chongqh~g400050，China) Abstract： lebasicprincipleofplasma enhanced chemicalvapourdeposition (PCVD)wasde- scribed，and the application statusofthe technology in the strengthening ofdiesand mouldswas studied，which involve cold working d S，hotworking dies，moulds for plastics and complex structurediesand moulds． letechniqueiSeffectivetoxe tend theservice lifeofdiesand moulds． 1e【ywords：plasmaenhancedchemicalvapourdeposition (PCvD)；dieandmould strengthening； ~vicelife 1 踟 技术原理 具的承载力，所以不适合用于模具强化处理。 1．1 CVD技术与PVD技术 物理气相沉积技术 7D(phySical~)IXXlrdelx~sP 化学气相沉积技术CVD(chm／calvapotlrdetx tim)~是利用热蒸发、溅射或辉光放电、弧光放电等 sition)是一种化学气相生长法。这种方法是把含有 物理过程在基体表面沉积所需涂层，该技术处理温 构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给 度一般低于500℃，通常可控制在200℃左右，因此 基体借气相作用或在基体表面上的化学反应生成 克服了CVD技术沉积温度高的问题，但除多弧离子 要求的薄膜 1【3o由于CVD法沉积温度高，镀层结合 镀外，一般1WD工艺的绕射性差，不易对形状复杂 牢固，而且对形状复杂或带有沟槽及孔的工件也可 的模具进行修复。 进行镀覆，加之沉积物如liC等镀层硬度相当高(可 达3000H )，耐磨性极好，而且摩擦因数小，具有很 1．2 PCVD技术 好的减摩性和抗咬合性，可大大提高模具使用寿 等离子增强化学气相沉积P (幽 cchm／- 命。但CVD技术处理时温度较高，一般在800～1000 calvapotlrdelx~sition)借助