GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法.pdf

犐犆犛２９．０４５ 犎 ８０ 中华人 民共和 国国家 标准 ／ — 犌犅犜２４５７５ ２００９ 硅和外延片表面 、 、 和 的 犖犪犃犾犓 犉犲 二次离子质谱检测方法 ， ， ， 犜犲狊狋犿犲狋犺狅犱犳狅狉犿犲犪狊狌狉犻狀 狊狌狉犳犪犮犲狊狅犱犻狌犿 犪犾狌犿犻狀狌犿 狅狋犪狊狊犻狌犿 犵 狆 犪狀犱犻狉狅狀狅狀狊犻犾犻犮狅狀犪狀犱犲犻狊狌犫狊狋狉犪狋犲狊犫 狊犲犮狅狀犱犪狉犻狅狀犿犪狊狊狊犲犮狋狉狅犿犲狋狉 狆 狔 狔 狆 狔 ２００９１０３０发布 ２０１００６０１实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 ／ — 犌犅犜２４５７５ ２００９ 前 言 　　 本标准修改采用 ＳＥＭＩＭＦ１６１７０３０４《二次离子质谱法测定硅和硅外延衬底表面上钠、铝和钾》。 　　 本标准对 格式进行了相应调整。为了方便比较，在资料性附录 中列出了本标准 ＳＥＭＩＭＦ１６１７０３０４ Ｂ 章条和ＳＥＭＩＭＦ１６１７０３０４章条对照一览表。并对ＳＥＭＩ１６１７０３０４条款的修改处用垂直单线标识在 它们所涉及的条款的页边空白处。 本标准与 ＳＥＭＩＭＦ１６１７０３０４相比，主要技术差异如下： ———去掉了“目的”、“关键词”。 ———将实际测试得到的单一试验室的精密度结果代替原标准中的精度和偏差部分，并将原标准中 的精度和偏差部分作为资料性附录 。 Ａ 本标准的附录 和附录 为资料性附录。 Ａ Ｂ 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。 本标准起草单位：信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研 究所。 本标准主要起草人：何友琴、马农农、丁丽。 Ⅰ ／ — 犌犅犜２４５７５ ２００９ 硅和外延片表面 、 、 和 的 犖犪犃