光学薄膜厚度的监控.pdfVIP

维普资讯 第 19卷 第 2期 西 安 工 业 学 院 学 报 V0【-19 No．2 1999年 6月 ILURIAL0FⅪ ’AN DSm U E【 0FIE~HE~LOGY June1999 0 ’／l，厂、＼，／、 1clj7[ 光学薄膜厚度的监控 0 3-7-70 巨养锋，韩军黄钉劲，弥谦，刘木兴 (西安工业学院 仪器工程系，陕西 西安 710032) 时得到膜层的光学常牡且具有监控精度高的优点 该方法也可用于非1／4波长膜系的控制 、—、 ，1 中图号：慧阱5n文献标识码：A 文章编号藿：咖14(1999)02—一0087-04f一』／ Themonitoring controlofopticaIthin—film thickness 龇 ：船 ，HW ，Ⅲ ￡ 锄 ，埘 ，_／／UMu-~ng (Deptofhm Eagine~Sng．Xi’anInstituteofTechnot~y，XiaIl710032，嘶 ) Abstract： A film ne~sn踟 ngcontrolm h quarter-films吣 presentedinthispaperBy ngridsmethod， theopticalconstantoflayercanbedetemained the8arxleprocess r canalsobeused∞mortitorthetmquam~r- filmsaccording to the measurementofthe film srelleclivity，and ithas advantage of 1pr0血 accuracy，increasing productiv and 盯啦r ir】gthe矗Iraproductquality Keywords： H ⅡⅡingo亡目c[0l；thin．film daickness；cOticalccnsbnb 光学薄膜厚度直接决定和影响着薄膜的光谱特性，因而准确控制薄膜厚度，就成为制备光 学薄膜的关键… 目前，薄膜厚度的监控太多采用光电极值法，其原理是 当薄膜厚度 达到 ^／4 整数倍时，薄膜的反射光强度出现极值 实际操作时，根据测量仪器指针的偏转米判断相应 的极值点，极值点出现后关闭蒸发源挡板，蒸镀停止 整个控制过程 由人眼观察和手工操作．由 于操作者工作时精神高度紧张，并且不可避免地存在人为主观性和经验性因素的影响；更 由于 在极值点附近，反射光强度信号对薄膜厚度变化最不灵敏，因而操作者要及时准确地判断极值 点相当困难，从而在一定程度上很难保证镀膜的质量 ．作者采用计算机控制代替手工操作，不 仅能够客观、快速准确地判断薄膜厚度到达极值点的时刻，并 自动关闭蒸发源挡板，而且可 以 在膜层蒸镀的同时，测试膜层的光学常数，从而为分析各种镀膜工艺参数(如真空度、沉积速 率、基底温度等)与膜层光学常数的关系提供了依据 对于非规整膜系的监控 ．可采取先计算指 定厚度时的反射率值．后 由计算机测量膜层的反射率值，并与计算机值相 比较，两者差值达到 预设范围时，关闭蒸发源挡板，停止膜层蒸镀，从而实现对非规整膜系的监控 ． ·收稿 日期：1999—01—14 基金项 目：兵器工业科研基金项 目(229682．3) 作者筒介：巨养锋 (1968一)．男 汉‘旗)．陕西乾县人．西安工业学院硬士研究生 维普资讯 西 安 工 业 学 院 学 报 第 19卷 1 测量系统及原理 1．1 测量系统 图1为系统示意图，光源发出的光线经分束