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电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能.pdf
第 58 卷 第 1 期 有 色 金 属 Vol58 , No 1 2 0 0 6 年 2 月 Nonferrous Metals February 2 0 0 6 电镀工艺条件与高饱和磁感应 CoNi Fe 软磁薄膜的性能 1 1 1 ,2 1 ,2 3 邓福铭 ,雷仁贵 ,赵国刚 ,王振廷 ,方光旦 ( ( ) 1 中国矿业大学 北京校区 材料科学与工程系 ,北京 100083 ; 2 黑龙江科技学院 材料 科学与工程系 ,哈尔滨 150027 ; 3 中国科学院计算技术研究所 ,北京 100080) 摘 要 :研究电沉积钴镍铁合金工艺条件如电流密度 、p H 和温度以及镀层厚度对膜层性能的影响。用振动样品磁强计测试 膜层的矫顽力 μ ρ 结果表明,膜 Hc 、磁化强度 M s 及磁滞回线, 用高频电感法测试膜层的磁导率 i , 用四探针法测试膜层的电阻率 。 ( 2 ) 层的电磁性能与镀覆工艺条件相关 ,在最佳镀覆工艺条件下 电流密度 10mA/ cm ,p H = 2 8 ,施镀温度 25 ℃,时间 10min 所得合金 镀层光亮、致密 ,有较好电磁特性 , B 达 19 T ,矫顽力 H 为 115Oe , 电阻率为 45μΩ ·cm ,在 1M Hz 下磁导率 μ为 602 。 s c i 关键词 :金属材料 ;高 B s 软磁膜 ; 电沉积 ;钴镍铁合金 ( ) 中图分类号 :TQ 153 2 ; TM27 12 ; T G1461 文献标识码 :A 文章编号 :100 1 - 02 11 2006 0 1 - 0035 - 04 用电镀法制备 NiFe 合金薄膜作为磁性材料已 组成 为 : Ni SO ·6 H O 02mol/ L ; FeSO ·7 H O 4 2 4 2 经得到了广泛的应用[ 1 - 2 ] ,调节镀液成分可获得不 0005 ～ 0045mol/ L ; Co SO ·7 H O 003 ～ 4 2 同合金比率 、不同磁性能的合金膜层 。如Ni80 Fe20 的 0045mol/ L ; N H Cl 028mol/ L ; H BO 04mol/ L ;
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