同步辐射光刻用的极紫外光源.pdfVIP

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2017-08-17 发布于湖北
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同步辐射光刻用的极紫外光源.pdf

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第40卷，第5期激·光与光电苦昔进瓜 Vol.40,N。石 2003年5月 May.2003 参考文献 1胡淞，苏伟军.0.8-lpm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算.光电工程，1998,26(3):7-11 2BertVleemine.BarbraHeskamo.HansBakkeretal.ArFstepscansystemwith0.75NAforthe0.1Ommnode.Proc.SPIE, 2001,4346:634 3glu0k,Boudewjn,Castenmiller,Tom.Performanceresultsofanewgenerationof300mmlithographysystems.Proc.SPIE 2001,4346:544-557 4DickFallon.Anrlicationspecificwaferstepper.Proc.SPIE,1987,772:210-217 5vanHoutFJ,vandenBrinkM人WittekoekSetal..Registrationaccuracyandcriticaldimensioncontrolfora5reaucnon stepperwithmagnificationcontrol.Proc.SPIE,1987,811:118-129 6HamakerHC,BuckPD.Performanceofanewhigh-NAscanned-lasermasklithorgaphysystem.Proc.SPIE,1997,3236: 42-54 7SomniagrenGE.Linear/angulardisplacementinterferometerforwaferstagemetrology.Proc.SPIE,1989,1088:268-271 8ValentinGE,HamakerHC,DanielJPetal..Improvementthroughputin0.6-NAlaserreticlewriters.Proc.SPIE,2001, 4186:46-57 9KazuakiSuzuki,ShinjiWakamoto,KerjiNishi.KrFstepandscanexposuresystemusinghigherN.A.projectionlens.Pros. SPIE,1996,2726:767-779 10BuckleyJD,KaratzasC.Stepandscan:Asystemsoverviewofanewlithographytool.Proc.SPIE,1989,1088:424-433 11谢传钵.分步董复投影光刻机精密快速定位工件台研究.光电工程，1996,23(4):70 ProressofWaferStageandReticleStageforStep-and-Scan-LithographySystem LRJDanCHENGZhaoyuGAOHaijunHUANGHuijieZHAOQUANzhongSHENWei (ShanghaiInstituteofOpticsandFineMechanics,TheChineseAcademyofSciences,Shanghai201800) AbstractRecentprogressintechnologyofwaferstageandreticlestageusedinstep-and-scanlithography systemisintroduced,andtheoverlayaccuracyandtheaccuracyoftheoverallsystemareanalyzed. Keywordsstep-and-scanlithographysystem,waferstage,reticlestage,overlayaccuracy 同步辐射光刻用的极紫外光源 g、hllw:,、lra.iin9俞fa13.赫5nm,,11。.am、n),11114MO、T二f,A蕊