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Fraunhofer IAF ﹠ CVD Diamond www.iaf.fraunhofer.de The performance parameter of products Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 http://www.CVD-/ http://www.CVD-/ Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 http://www.CVD-/ Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 目前，公司已准备运用金刚石材料化学气相沉积技术，集中加工高档钻石晶圆和先进的金刚石产品 。 Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 Advanced technology——Microwave Plasma CVD 通过微波加热，将等离子体作为化学气相沉积（CVD）施加能量的方式，除了可以对基片加热外，反应气体在外加电场的作用下放电，使其激活为非常活泼的激化态分子、原子、离子及其团簇，降低了反应的活化能，使通常从热力学上难以发生的反应得以进行。即，微波等离子体化学气相沉积技术。 http://www.CVD-/ MPCVD沉积装置不仅能沉积高纯度的金刚石膜，沉积速率也可以通过增大微波功率来提高。用5KW 微波功率的MPCVD，可以以10μm/h的速率沉积工具级的金刚石膜，8μm/h的速率沉积热沉级的金刚石膜，3μm/h的速率沉积光学级的金刚石膜；而用1.5KW微波功率沉积，则沉积速率将相应地降低一个数量级 . 微波功率的增大能大幅度地提高金刚石膜的沉积速率，从而降低生产成本，沉积金刚石膜的直径也从1.5KW微波功率的50mm金刚石膜上升到75KW微波功率的250mm金刚石膜。 Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 Fraunhofer IAF公司于1999年设计出功率为60KW、915MHz频率的椭球形MPCVD装置 . http://www.CVD-/ Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 Advanced equipment 椭球微波等离子体化学气相沉积反应器 http://www.CVD-/ ?Ellipsoidal microwave plasma reactor The number of CVD diamond deposition for wafer microwave plasma reactor powered from 6 to 12 kilowatts of microwave power has been established. Extended version of the work in the microwave frequency of 915 MHz for the production of large area (6) diamond wafers. The design of these reactors are based on numerical simulation of microwave plasma. The reactor is optimized for large area uniform coating substrate with a reasonable growth rate. Proprietary deposition technology: Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 http://www.CVD-/ ?Ellipsoidal microwave plasma reactor Proprietary deposition technology: Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 http://www.CVD-/ Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 http://www.CVD-/ Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 http://www.CVD-/ Fraunhofer?Institute?IAF 弗劳恩霍夫协会应用固体物理研究所 The usage ﹠ theory of equipment 关键：金刚石的沉积速率，沉积面积和质量。 通常采用CH4进行热解沉积，通入混合气体H2
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