ITO玻璃光刻工艺的研究.pdfVIP

第 20 卷 　第 1 期 　液 　晶　与 　显 　示 Vol . 20 ,No . 1 　　　　 　　 　　 2005 年 2 月 　　 　Chinese J ournal of L iquid Cry st al s and Di sp lays 　　　　 　 　　　Feb . ,2005 文章编号 (2005) 0 1002205 I TO 玻璃光刻工艺的研究 1 1 2 2 张麦丽 ,王秀峰 ,牟 　强 ,张方辉 ( 1. 陕西科技大学 材料科学与工程学院 , 陕西 咸阳　7 12081 , Email :zhangmaili @yahoo . com . cn ; 2 . 陕西科技大学 电气与电子工程学院 , 陕西 咸阳　7 12081) 摘 　要 :将光刻胶涂敷在带有 ITO 薄膜的玻璃表面上 ,利用紫外光对其进行光刻 ,通过金相显 微镜观察刻蚀后的 ITO 表面形貌 ,定性地讨论各个工艺的不同对刻蚀后的电极的影响 ,得到 最佳清洗工艺为 :洗涤剂棉球擦洗 ,然后分别用丙酮 、蒸馏水超声清洗两次 ,烘干 ;对于正性光 刻胶 RZJ390 P G ,最佳实验效果的曝光时间为 5 min ;最佳显影时间为 2 min ;最佳刻蚀时间为 6 min ,为 OL ED 得到精细阳极奠定了基础 。 关 键 词 : ITO ;光刻 ;曝光时间;显影时间;刻蚀时间 中图分类号 : TN27 ; TN 305 . 7 　　　文献标识码 :A 胶 ;采用 U 200025 型光刻机进行曝光实验 ;采用 1 　引　　言 长春光机所生产的润湿角测量仪测量其润湿角 ; 从 20 世纪 40 年代起诞生的几项高技术的发 采用金相显微镜观察其表面形貌 。 明和随后形成的产业 ,将人类社会推向了以技术 2 . 3 　实验过程 进步为标志的高科技时代 。在对人类影响重大的 本实验的实验过程如图 1 所示 。 技术 中 , 微 电子技术 的出现和应 用最 引人注 2 . 4 　结果测试 [ 1～3 ] 目 。微电子技术的发展 ,主要依赖于制作技 采用金相显微镜对每一个实验过程的结果进 术的进步 ,微细加工技术的进步起着决定性的作 行观察 , 以确定最佳实验工艺 。 用 。利用光刻工艺的微细加工技术 , 已成为决定 未来半导体产业发展的决定性因素[4 ,5 ] 。 3 　结果与分析 随着集成度的不断提高 ,人们对光刻技术的 3 . 1 　ITO 表面清洁度的影响 分辨率要求也越来越高[ 6 ,7 ] 。对于一定的光刻 在 I TO 表面光刻出0 . 2 mm 的电极 ,这就要 机 ,在设备分辨率能满足要求的情况下 ,工艺过程 求玻璃表面在涂胶之前必须是洁净的[ 10 ] 。因为 的控制是提高整体分辨率的重点[ 8 ,9 ] 。本实验采 在光刻过程中玻璃表面的杂质和水分将严重影响 ( ) 用 H g 灯的 I 线 365 nm ,对光刻工艺过程中