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本申请公开了一种真空规校准方法、校准装置及半导体处理设备，真空规校准方法用于校准工艺腔室中的真空规，其中，所述工艺腔室上还设置有标准规，所述方法包括：S10、获取所述真空规测量的第一压力，以及所述标准规测量的第二压力；S20、若所述第一压力和所述第二压力的差的绝对值大于预设压力差阈值，则对所述真空规进行校准，以使所述真空规校准后的压力值和所述第二压力的差的绝对值小于或等于所述预设压力差阈值。本申请可以自动对真空规进行及时的校准，方便可靠，避免了人为操作带来的误差和不及时性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118067304A
(43)申请公布日2024.05.24
(21)申请号202211496196.9
(22)申请日2022.11.22
(71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司
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